Dureza superficial de tres resinas compuestas a diferentes densidades de potencia, Pasco- 2025
Loading...
Date
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Universidad Nacional Daniel Alcides Carrión
DOI
Abstract
El presente estudio experimental tuvo como propósito determinar el efecto de la densidad de potencia de fotopolimerización sobre la dureza superficial Vickers de tres resinas compuestas: Filtek Z350 XT, Tetric N-Ceram y Forma. Se empleó un diseño factorial 3×3, evaluando tres densidades de potencia (275, 500 y 600 mW/cm²) durante 20 segundos. Se confeccionaron noventa especímenes estandarizados (7 mm × 2 mm), distribuidos en nueve grupos con diez réplicas. La dureza se midió mediante microdurómetro Vickers tras 24 horas de almacenamiento a 37 °C.
El ANOVA factorial reveló efectos altamente significativos de la densidad de potencia (F = 31.49; p < 0.001; η²p = 0.438) y del tipo de resina (F = 37.34; p < 0.001; η²p = 0.480), así como interacción significativa entre ambos factores (F = 2.77; p = 0.033; η²p = 0.120). La irradiancia de 275 mW/cm² produjo valores de dureza considerablemente inferiores (media global = 36.81 HV), mientras que 500 y 600 mW/cm² generaron resultados superiores sin diferencias entre sí (p = 0.883), sugiriendo un umbral óptimo alrededor de 500 mW/cm².
Filtek Z350 XT presentó la mayor dureza global (62.94 HV) con respuesta monotónica ascendente. Tetric N-Ceram mostró comportamiento intermedio y estable, alcanzando saturación polimérica a densidades intermedias. Forma evidenció el patrón más atípico, con valores extremadamente bajos a 275 mW/cm² (24.97 HV; DE = 15.71) y comportamiento no monotónico con máximo a 500 mW/cm² (53.83 HV) y disminución a 600 mW/cm² (47.09 HV), atribuible a fotoiniciadores alternativos y sobrecurado.
Se concluye que la densidad de potencia afecta significativamente la dureza superficial, pero dicho efecto depende del material. La irradiancia de 275 mW/cm² resultó insuficiente para los tres composites, mientras que 500 mW/cm² se perfila como umbral generalmente óptimo. Estos hallazgos evidencian la necesidad de individualizar los protocolos de fotocurado según el material empleado.
Description
Citation
Collections
Endorsement
Review
Supplemented By
Referenced By
Creative Commons license
Except where otherwise noted, this item's license is described as info:eu-repo/semantics/openAccess
